離子注入氣( Gases for Ion Implantation)：

    離子注入是把離子化的雜質, 例如P + 、B + 、As+加速到高能量狀態, 然后注入到預定的襯底上。離子注入技術在控制V th(閾值電壓) 方面應用得最為廣泛。注入的雜質量可通過測量離子電流而求得。離子注入工藝所用氣體稱離子注入氣, 有磷系、硼系和砷系氣體。